某半導體公司位于蘇州市工業園區,主要產品為ＭCＵ(微控制器)和LCD驅動器。公司現有一套設計處理能力為20m3h的廢水處理裝置,處理電鍍工藝中所產生的含氟廢水(同時含有少量的Cｕ2+和Zｎ2+),處理水排放至城市二級污水處理廠。現有處理裝置采用傳統化學沉淀法。利用ＮaOＨ沉淀上述金屬離子,CaCｌ2沉淀F-。在長期的運行過程中,處理后的廢水中金屬離子和F-基本達標。但作為廢水中的主要處理對象,排放水中F-的質量濃度較高,在16mgL左右,僅略低于各相關標準和規定所要求的20mgL。

隨著企業自身環境保護意識進一步加強,該公司對F-的處理提出了更高的要求,希望將F-的質量濃度控制在10mgL以內,以適應企業新的環境質量要求。

1、現有電鍍含氟廢水處理概況

1.1電鍍廢水處理工藝流程電鍍廢水處理工藝流程,反應槽、混合槽、沉淀槽pＨ值都控制在9～12。反應槽中CaCｌ2的加藥量為假定全部與廢水中F-反應生成CaF2所需的CaCｌ2量。

1.2現有電鍍廢水狀況

1.2.1進水水質

(1)低濃度廢水Q5.8～6.4th,pＨ值5.3～5.5,ρ(F-)35～45mgL,ρ(Zｎ2+)7.8～8.2mgL,ρ(Cｕ2+)1.0～1.5mgL,COD250～310mgL。具體參見http://www.jianfeilema.cn更多相關技術文檔。

(2)高濃度廢水Q0.4～0.6th,pＨ值2.4～2.6,ρ(F-)2100～2400mgL,COD1266～1288mgL。

1.2.2出水水質pＨ值7.2～8.0,ρ(F-)14～17mgL,ρ(Zｎ2+)1.1～2.3mgL,ρ(Cｕ2+)0.6～1.1mgL,COD53～68mgL。排放水中F-的質量濃度在14～17mgL,而高濃度廢水總量很小,因此,以低濃度廢水作為主要研究對象。

詳情請下載附件：電鍍含氟廢水處理工藝