光催化氧化技術以太陽光為潛在的輻射源，激發半導體催化劑，產生空穴和電子對，具有很強的氧化還原作用。當用于降解水中有機物時，光生空穴將產生羥基自由基(·OH)等強氧化性自由基，可以成功地將水中包括難降解有機物在內的大多數污染物分解為CO2和H2O等無污染的小分子物質.因此，光催化氧化法是一種簡單、高效且很有前途的廢水處理技術.它在一定的時間里可以將幾乎所有的還原性物質氧化，具有能量利用率高、脫色效果好、不產生剩余污泥、無二次污染等特點。

　　呂靜等以天然斜發沸石負載TiO2為光催化劑，紫外光為光源，對制藥工業廢水進行光催化降解實驗.實驗結果表明，經過光催化劑催化降解反應，制藥工業廢水的COD去除率可達78.2%，脫色率為94.6%.田秀英等利用混凝法對制藥廢水進行降解，處理最佳工藝為:pH值7，10mg/L的硫酸鐵投加量為0.6mL，1mg/L的PAM投加量為2mL，廢水COD去除率可達到70%，SS去除率可達90%.而光催化方式處理制藥廢水，最佳工藝為:光催化方式選擇曝氣，反應溫度控制在20～30℃之間，1%的過氧化氫投加量為9ml，pH值為4，反應時間為3h，廢水COD去除率可達到96%.由上述實驗數據表明，光催化氧化技術對制藥廢水的處理效果和處理速率都有很大提高.因此，高效的光催化劑的制備成為了該方向的研究熱點。具體聯系污水寶或參見http://www.jianfeilema.cn更多相關技術文檔。

　　盡管制藥廢水處理的方法有很多，但迄今還沒有一種方案能高效、經濟、穩定地處理制藥污水.隨著制藥廢水處理量和難降解有機物種類的不斷增加，單一的工藝在處理效果和處理費用方面已經很難滿足實際要求.因此，不斷探索新工藝和高效的工藝組合將是未來的發展方向.其中，微波技術和具有高催化活性的新型、復合型催化劑相結合，由于其具有高效、低能耗和無二次污染等特點，將成為未來處理難降解制藥廢水的新方法。