光化學氧化技術屬于高級氧化工藝，是新興的現代水處理技術，該技術通過氧化劑（O3、H2O2等）在紫外（或可見）光的激發和催化劑(Fe2+、Fe3+ 、半導體等)的催化作用下，產生具有強氧化性的羥基自由基，羥基自由基的標準氧化電位達2.8eV，是除元素氟以外最強的氧化劑，能無選擇地將絕大多數有機物徹底氧化成CO2、H2O和其它無機物，反應速度快，耗時短，反應條件溫和（常溫、常壓），操作條件易于控制，無二次污染。印染廢水中染料的顏色來源于染料分子的共扼體系—含不飽和基團-N=N-、-N=O等的發色體，光化學氧化產生的羥基自由基能夠有效打破共扼體系結構，使之變成無色的有機分子，并進一步礦化為H2O、CO2和其他無機物質。光化學氧化工藝上的特點和染料的分子結構特征決定了光化學氧化技術在印染廢水處理方面具有其他工藝所無可比擬的優勢。